光柵繞射條紋亮度與刻痕數目有關。因為光柵 繞射通常簡稱為"光柵",是一種由密集﹑等間距平行刻線構成的非常重要的光學器件。
它利用多縫繞射和干涉作用﹐將射到光柵上的光束按波長的不同進行色散,再經成像鏡聚焦而形成光譜,因此光柵的刻痕數目N和每一亮條紋的光強I關係為,I正比於N²。增加刻痕數目會使亮紋亮度增加。