光掩膜生產設備介紹

光掩膜除了應用於芯片製造外，還廣泛的應用於像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、幹版，凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料。基板通常是高純度，低反射率，低熱膨脹係數的石英玻璃。

鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。應用於芯片製造的光掩膜為高敏感度的鉻版。

幹版塗附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過幹版還有包膜和超微顆粒幹版，其中後者可以應用於芯片製造。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。