原理是一種薄膜沉積工藝,使用離子源,將靶材(金屬或電介質)沉積或濺射到基片上,以形成金屬或電介質膜。
因為離子束是等能的(離子具有相等的能量),且高度準直,所以與其他PVD(物理氣相沉積)技術相比,其能夠精確地控制厚度,並沉積非常緻密的高質量薄膜。