光阻剝離屬於什麼工序

光阻剝離(stripping)是在半導體或顯示器的黃光微影工藝的最後一道步驟，就是將上道蝕刻步驟中保護圖案的光阻去除，避免光阻殘留污染下一道黃光微影工藝，以獲得乾淨的有線路圖案的基板。

光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業製程上的光敏材料。光阻剝離是一種光阻剝離裝置以及光阻剝離方法，通過在過濾裝置的濾芯中添加mof材料，該材料在可見光下可以捕捉溶液中的氧氣，降低溶液中的溶解氧，進而降低縫隙內外的氧濃度差，緩解因基板剝離光阻所產生銅的掏空現象進一步的，當達到飽和時，可對其進行加熱或者紫外光照，將其吸附的氧氣釋放出去，進而可循環使用濾芯材料。