pvd偏壓概念:
離子鍍基本原理是在真空條件下,採用某種等離子體電離技術,使鍍料原子部分電離成離子,同時產生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下,離子沉積於基體表面形成薄膜。
PVD-物理氣相沉積:指利用物理過程實現物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、 耐磨性 、散熱性、耐腐性等)的微粒噴塗在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能。