真空鍍銅原理

真空鍍銅：一般電解電鍍習慣以硫酸銅溶液來進行離子交換，因二價之銅離子較活潑，故極易讓活性鎳吸附，此時與鎳離子之間所形成之凡得瓦爾力為最大，如再以電流為媒介，更可加速其離子交換之速度。

真空鍍銅原理

真空電鍍是一種物理沉積現象，就是在真空狀態注入ya氣，ya氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。真空電鍍的優點就是，做出來的產品金屬感強，亮度高，而相對其他的鍍膜做法來説，成本較低，對環境的污染小，現在被各行各業廣泛使用。