中國28nm光刻機靠譜,確實中芯國際研發的首台。
中國國產的芯片製造技術,仍大幅度落後於國際。由中芯國際研發的光刻機,還處於28nm工藝的水平,和國際主流的7nm工藝,還有很大的差距。預計在今年下半年開始,國際芯片製造將邁入5nm工藝時代。
至於網上流傳的中芯國際成功研製7nm光刻機,則沒有官方消息的證明。但好消息的是,近年來,中國開始重視芯片製造技術,傳聞華為已開始研究和生產光刻機,並且將採用更為先進的技術,在此也是希望華為能再次成功。