拋光是完成諸如切割或磨削以提供光滑表面的預處理的過程。可以提高諸如表面紋理（表面粗糙度），尺寸精度，平面度和圓度之類的幾何形狀的精度。
拋光的方法大致分為兩類：
一種是通過將硬而細的砂輪固定到金屬上的"固定磨粒加工方法"，另一種是"自由磨粒加工方法"，其中將砂粒與液體混合。
1，機械拋光。機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如迴轉體表面，可使用轉枱等輔助工具，表面質量要求高的可採用超精研拋的方法。超精研拋是採用特製的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常採用這種方法。
2，化學拋光。 化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需複雜設備，可以拋光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得到的表面粗糙度一般為數10μm。
3，電解拋光。 電解拋光基本原理與化學拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。
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