pvd鍍膜是怎樣的工藝

PVD（Physical Vapor Deposition）技術是製備薄膜材料的主要技術之一，在真空條件下采用物理方法，將某種材料氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，並通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基板材料表面沉積具有增透、反射、保護導電、導磁、絕緣、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾等特殊功能的薄膜材料的技術。

用於製備薄膜材料的物質被稱為 PVD鍍膜材料。濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜是最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。