tamah顯影液用途

顯影液的主要成分是顯影劑。為了完善性能，通常還加一些其他成分，諸如促進顯影的促進劑，防止顯影劑氧化的保護劑，防灰霧生成的灰霧抑制劑和防灰霧劑等。

通過對各組分不同用量的調配可以得到不同性能的顯影液，如微粒顯影液、高反差顯影液等。

工業上説的顯影劑，是針對半導體晶片而言。系列有顯影劑、光刻膠等。

顯影液是溶解由曝光造成的光刻膠的可溶解區域的一種化學溶劑。主要成分有硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀、硼酸、對苯二酚等。有毒，不可直接接觸肌膚，會嚴重腐蝕。