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關於lpcvd的時尚知識

關於lpcvd的時尚知識

lpcvd裝置的主要功能

發表於：2024-01-10

LPCVD裝置是一種用於物理學、電子與通訊技術領域的工藝試驗儀器，於2005年8月17日啟用。主要功能：澱積多晶矽、氮化矽、二氧化矽、氧化矽等薄膜材料。技術指標：澱積薄膜厚度600A-20000A，極...
lpcvd工藝原理

發表於：2024-03-01

原理如下&nbsp&nbsp&nbsplpcvd工藝原理也是半導體行業中的一種標準工藝，CVD工藝製備光波導的流程，它是在矽基片（或者石英基片）上相繼沉積具有不同摻雜層的光波導層，比如芯層通過摻磷、硼來...

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