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  • 太陽能電池刻蝕與制絨的區別
    發表於:2024-04-01
    刻蝕與制絨雖然都是太陽能電池,但是刻蝕與制絨區別很大材質不一樣刻蝕是金屬材質,制絨是塑料材質功率不一樣刻蝕的功率大,制絨的功率小顏色不一樣刻蝕是黑色,制絨是彩色制絨是爲了在硅片表...
  • 刻蝕工藝的原理和目的
    發表於:2024-01-31
    刻蝕最簡單最常用分類是:幹法刻蝕和溼法刻蝕。顯而易見,它們的區別就在於溼法使用溶劑或溶液來進行刻蝕。溼法刻蝕是一個純粹的化學反應過程,是指利用溶液與預刻蝕材料之間的化學反應來去...
  • 銅刻蝕反應原理
    發表於:2024-04-08
    金屬蝕刻就是先在基板上用絲印或網印的方式把基板上需要保護的部位遮住,然後用化學或電化學方式侵蝕掉不需要的部位,最後退去保護膜,得到製品的一種加工方式。是生產標牌、電路板、金屬工...
  • 半導體刻蝕基礎知識
    發表於:2024-03-03
    半導體刻蝕的基礎知識包含了將材質整⾯均勻移除及圖案選擇性部份去除的技術。⽽其中⼤略可分爲溼式刻蝕(WetEtching)與⼲式刻蝕(DryEtching)兩種技術。早期半導體制程中所採⽤的刻蝕⽅...
  • 刻蝕工藝工程師幾年入門
    發表於:2024-02-07
    至少2-3年纔有資本說自己幹過。一個有經驗的工藝工程師大約需要5-10年的時間。刻蝕工藝工程師崗位職責:1、負責刻蝕新工藝的開發和量產導入2、負責刻蝕異常的處理,不良分析和解決,保障蒸...
  • 鐵電極表面刻蝕活化原理
    發表於:2024-02-26
    電蝕刻是利用金屬在以自來水或鹽水爲蝕刻主體的液體中發生陽極溶解的原理,(電解的作用下)將金屬進行蝕刻,接通蝕刻電源,從而達到蝕刻的目的。蝕刻機可以分爲化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。在...
  • 刻蝕製程溫度有多高
    發表於:2024-01-31
    刻蝕溫度一般介於35~45℃之間刻蝕,英文爲Etch,它是半導體制造工藝,微電子IC製造工藝以及微納製造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻[1]相聯繫的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。所謂...
  • 半導體刻蝕工藝工程師有前途嗎
    發表於:2024-01-09
    不同工種的工藝工程師差不少呢。我覺得光刻相關的最值錢,畢竟目前人工溼法刻蝕還很難被機器完全取代。出師呢,至少2-3年纔有資本說自己幹過。一個有經驗的工藝工程師大約需要5-10年的時...
  • 氯化鐵溶液刻蝕銅板化學方程式
    發表於:2024-01-01
    氯化鐵和銅化學反應方程式:Cu+2FeCl3=2FeCl2+CuCl2。離子反應方程式:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+。氯化鐵中的Fe元素爲+3價是強氧化性的,所以會和銅發生反應變成+2價亞鐵。氯化鐵,化學式FeCl3。是...
  • 刻蝕師有前途嗎
    發表於:2024-04-08
    刻蝕師有前途。溼法刻蝕是技術含量比較高的一種雕刻工藝,並且在許多領域都有非常廣泛的運用,而作爲溼法刻蝕工程師,不僅僅是工作前景非常良好而且待遇也非常高,無論是作爲工作還是事業都有...
  • 刻蝕ito用什麼氣體
    發表於:2024-01-12
    刻蝕ito用的氣體是甲烷。ITO是通過真空磁控濺射鍍膜工藝生產的一種材料。透明導電膜屏蔽玻璃的導電膜層材料主要爲ITO(銦錫氧化物半導體)膜、金屬鍍膜等,其特點是在150KHz~1GHz範圍內有適...
  • 石頭蝕刻方法
    發表於:2024-03-10
    可以用稀鹽酸,大理石的主要成分是碳酸鈣,碳酸鈣與稀鹽酸反應生成氯化鈣與水,可以達到腐蝕的目的但是不能用硫酸。硫酸與碳酸鈣幾乎不反應。也不建議用硝酸。總之稀鹽酸是一個不錯的選擇...
  • 激光蝕刻的原理
    發表於:2024-03-08
    激光蝕刻是採用高能脈衝激光束在零件表面刻蝕出寬度爲10~505μm、深度爲5~1001μm的微細小槽,以改善材料表面潤滑特性的技術。激光刻蝕的基本原理是將高光束質量的小功率激光束(一般爲紫...
  • 蝕刻和光刻合起來叫什麼
    發表於:2024-03-03
    叫半導體工藝。蝕刻和光刻合起來叫半導體工藝,當然只是半導體工藝中的一部分。半導體工藝大概有如下:蝕刻工藝、光刻工藝、摻雜工藝、薄膜製備工藝、籽晶熔接工藝、放肩工藝、收晶、等徑...
  • 幹法蝕刻原理
    發表於:2024-02-27
    原理是利用等離子氣體進行材料上的物理和化學雙重蝕刻。幹法刻蝕是用等離子體進行薄膜刻蝕的技術。等離子體中的這些氣體化學活性比常態下時要強很多,可以更快地與材料進行反應。還可以...
  • zippo蝕刻和雕刻哪個手感好
    發表於:2024-01-06
    雕刻的手感好。1:Zippo蝕刻:就是用某種液體把機身表面腐蝕掉,留下要的圖案就行。&nbsp2:Zippo精雕刻,是採用激光以瞬間高溫的形式去掉不需要的地方。3:二者相對比:蝕刻成本低,精度低,手動工作...
  • 真空蝕刻線原理
    發表於:2024-04-09
    真空蝕刻線科學原理分析如下:蝕刻過程是PCB生產過程中基本步驟之一,簡單的講就是基底銅被抗蝕層覆蓋,沒有被抗蝕層保護的銅與蝕刻劑發生反應,從而被咬蝕掉,最終形成設計線路圖形和焊盤的過...
  • 芯片光刻及蝕刻有毒嗎
    發表於:2024-02-29
    芯片光刻是無毒的。但蝕刻有毒,使用化學藥劑。高能光都被嚴格限制在光路里,除非設備出現問題,否則沒有機會對人體造成傷害。激光做刻蝕除了對人眼有損傷外,其他無損害,是高效環保產品。因此...
  • 蝕刻怎麼解決側腐蝕
    發表於:2023-12-30
    1.制定或控制好適於自身產品的蝕刻液的溫度。2.選擇高效率的蝕刻液。最好能使金屬蝕刻液連續使用、再生.永遠處於最佳的活躍狀態。3.嚴格控制銅板蝕刻時間。方法是先做首件,選擇出最佳的蝕...
  • 晶圓需要幾次光刻和蝕刻
    發表於:2024-02-27
    小到幾次,大到上百次。在一塊晶圓上製造出芯片需要經過上千道工序,從設計到生產需要三個多月的時間。晶圓從光刻、蝕刻到形成最終的芯片流程非常複雜,有些小芯片可能僅需要幾次光刻和蝕刻...
  • 銅板蝕刻是什麼
    發表於:2024-01-14
    銅腐蝕是一種選擇性的去除過程,用於在銅板上產生圖像。大多數蝕刻過程需要一塊覆蓋有非反應性材料的金屬板,然後選擇性地將其去除。銅板暴露在腐蝕性物質中,腐蝕性物質會去除少量的銅,而不...
  • pcb酸性蝕刻和鹼性蝕刻區別
    發表於:2024-04-11
    pcb酸性蝕刻和鹼性蝕刻區別在於成分和效能不同。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。鹼性蝕刻液主要成分爲氯化銅﹑氨水﹑氯化銨,補助成分爲氯化鈷、氯化鈉、氯化銨或其它含...
  • zippo雕刻和蝕刻哪個好
    發表於:2024-01-15
    zippo雕刻和蝕刻相比,蝕刻更好。雕刻的話,是要看機器雕還是手雕了。通常機器雕刻有分,刀刻和激光鐳射,通常不容易掉,會磨損要看打火機材質,如果鍍鉻刀刻上去的,正常使用7~8年都很難磨損。有些...
  • 光蝕刻和化學蝕刻有什麼區別
    發表於:2024-03-24
    光蝕刻,簡稱光刻,主要是應用於製作印片或電器的線路板等。利用照相手段製作抗蝕膜像,用來保護表面,在金屬、塑料等上面,藉助腐蝕劑進行腐蝕的方法。應用於製作印片或電器的線路板等。化學蝕...
  • 什麼是蝕刻工藝
    發表於:2024-03-12
    其基本原理是利用化學感光材料的光敏特性,在基體金屬基片兩面均勻塗敷感光材料採用光刻方法,將膠膜板上柵網產顯形狀精確地複製到金屬基片兩面的感光層掩膜上通過顯影去除未感光部分的掩...