格科微arf光刻機是什麼製程

格科微arf光刻機不會超過28納米製程。

格科微有限公司“12英寸CIS集成電路特色工藝研發與產業化項目”推進迅速。廠房和潔淨車間建設已經基本完成。在3月24日，格科半導體再次迎來了建廠重要標誌性時刻，整套生產線中的最關鍵設備——ASML先進ArF光刻機成功搬入。從12英寸晶圓來分析，該光刻機不會太低級，但畢竟是製造攝像方面的，所以最高也就是28納米制程的。