相比現行的台積電16nm技術,若利用更先進的10nm技術來製造同一A10X芯片,芯片面積無疑顯著減小。
最新10nm工藝技術,將允許芯片設計方在同一面積的芯片內塞進更多的晶體管數量,確切地説是一個既定的區域塞進約原先兩倍的晶體管數量。
更重要的是,台積電還提供了與16nmFinFET+工藝對比的兩個數字指標,第一是在功耗不變的情況下性能提升18%,第二則是在性能不變的情況下功耗可以降低近40%。