7nm光刻機最好的技術

不是，最好的4納米。

光刻機本身最高的應該是euv極紫外光光源波長的光刻機，其波長為13.5納米。用euv光刻機可以製造22納米以下製程的芯片，目前最高可商業量產芯片的製程為4納米，分別是高通驍龍8移動平台系列和聯發科天璣9000。而未商業量產階段的芯片最高可以到3納米制程。

不是，目前5nm是最好技術

阿斯麥目前的極紫外光刻機，包括TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，這兩款極紫外光刻機，可用於生產7nm和5nm的芯片，後者是最新推出的，去年共交付了9台。