三星目前的工藝實際上分為四大節點,分別是14nm、10nm、7nm及3nm,每代節點還會有多個衍生版,其中14nm節點有14nm LPE、14nm LPP、14nm LPC、14nm LPU及11nm LPP版本,10nm節點有10nm LPE、10nm LPP、8nm LPP、8nm LPU及尚在開發中的版本。
7nm節點中,三星這一次放棄LPE低功耗,直接進入了7nm LPP(還有EUV光刻工藝輔助)、6nm LPP、5nm LPE、4nm LPE等衍生版。
真正發生重大變革的是3nm節點,因為3nm開始會放棄FinFET轉向GAA晶體管,第一代是3GAE工藝,還有優化版3GAP工藝,後續還在繼續優化改良中。
三星各個工藝的時間點也不同,7nm EUV工藝今年4月份開始量產,下半年開始推6nm工藝,5nm工藝今年4月份完成開發,下半年首次流片,2020年量產。