多弧離子鍍膜的優缺點

優點：1、靶材粒子能量高（比熱蒸發高出1個數量級），所製備膜層更緻密，與基板結合力更高

2、一般備有輔助離子源，可以用來清洗基板，清洗效果好

3、易於製備熔點高的材料

4、製備合金膜層，可以保證膜層材料比例與靶材相同

5、由於裝有中和器，也可以用來製備絕緣膜層

缺點：1、一般鍍膜速率較慢，幾十埃每秒

2、離子源清理和中和器燈絲更換較頻繁

3、不適宜製備較大面積薄膜