半導體cvd設備是半導體測試設備。半導體cvd設備是指利用物理過程實現物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。
它的作用是可以是某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴塗在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能! PVD基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)