真空電鍍鋁的原理

原理真空鍍鋁機鍍膜 主要是為了減少反射。 為了提高鏡頭的透光率和影像的質量， 在現代鏡頭製造工藝上都 要對鏡頭進行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據光學的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為 1/4 波 長的物質(通常為氟化物) ，使鏡頭對這一波長的色光的反射降至最低。

顯然，一層膜只對 一種色光起作用， 而多層鍍鋁膜可對多種色光起作用。 多層鍍膜通常採用不同的材料重複的 在透鏡表面上鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，例如，未經鍍膜的 透鏡每個表面的反射率為 5%，單層鍍膜後降至 2%，而多層鍍膜可降至 0.2%，這樣，可大 大減少鏡頭各透鏡間的慢反射，從而提高影像的反差和明鋭度。 10-3pa 後，在充進 3pa 左右的 Ar 氣，膜材或靶材為陰極，待鍍基片為陽極，在兩極之間加 高於 1000V 的射頻電壓，產生輝光放電，放電形成的正離子在電場的作用下向靶加速飛去， 轟擊靶材，使原子/離子濺落到基片上凝聚成膜。一旦濺射開始，俗稱點火，真空室內的電 子增多，電子與氣體碰撞的概率大大增加，氣體容易電離，因此，維持輝光放電的電壓可有 所降低。